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3月23日，國家稅務(wù)總局發(fā)布《研發(fā)機構(gòu)采購國產(chǎn)設(shè)備增值稅退稅管理辦法》（下稱《管理辦法》）公告，明確自2019年1月1日至2020年12月31日，繼續(xù)對研發(fā)機構(gòu)（包括內(nèi)資研發(fā)機構(gòu)和外資研發(fā)中心）采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅。

根據(jù)《管理辦法》第三條稱“研發(fā)機構(gòu)”、“國產(chǎn)設(shè)備”的具體條件和范圍，按照91號公告規(guī)定執(zhí)行。根據(jù)91號公告，“研發(fā)機構(gòu)”包含10大類，“國產(chǎn)設(shè)備”包含33大類，具體如下：

33類“國產(chǎn)設(shè)備”

科技開發(fā)、科學(xué)研究和教學(xué)設(shè)備，是指符合《中華人民共和國增值稅暫行條例實施細(xì)則》（財政部 國家稅務(wù)總局令第50號）第二十一條“固定資產(chǎn)”的相關(guān)規(guī)定，為科學(xué)研究、教學(xué)和科技開發(fā)提供必要條件的實驗設(shè)備、裝置和器械（不包括中試設(shè)備）。具體包括以下四類：

一、實驗環(huán)境方面

（一）教學(xué)實驗儀器及裝置；

（二）教學(xué)示教、演示儀器及裝置；

（三）超凈設(shè)備（如換氣、滅菌、純水、凈化設(shè)備等）；

（四）特殊實驗環(huán)境設(shè)備（如超低溫、超高溫、高壓、低壓、強腐蝕設(shè)備等）；

（五）特殊電源、光源設(shè)備；

（六）清洗循環(huán)設(shè)備；

（七）恒溫設(shè)備（如水浴、恒溫箱、滅菌儀等）；

（八）小型粉碎、研磨制備設(shè)備。

二、樣品制備設(shè)備和裝置

（一）特種泵類（如分子泵、離子泵、真空泵、蠕動泵、蝸輪泵、干泵等）；

（二）培養(yǎng)設(shè)備（如培養(yǎng)箱、發(fā)酵罐等）；

（三）微量取樣設(shè)備（如取樣器、精密天平等）；

（四）分離、純化、濃縮設(shè)備（如離心機、層析、色譜、萃取、結(jié)晶設(shè)備、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器等）；

（五）氣體、液體、固體混合設(shè)備（如旋渦混合器等）；

（六）制氣設(shè)備、氣體壓縮設(shè)備；

（七）專用制樣設(shè)備（如切片機、壓片機、鍍膜機、減薄儀、拋光機等），實驗用注射、擠出、造粒、膜壓設(shè)備，實驗室樣品前處理設(shè)備。

三、實驗室專用設(shè)備

（一）特殊照相和攝影設(shè)備（如水下、高空、高溫、低溫等）；

（二）科研飛機、船舶用關(guān)鍵設(shè)備；

（三）特種數(shù)據(jù)記錄設(shè)備（如大幅面掃描儀、大幅面繪圖儀、磁帶機、光盤機等）；

（四）材料科學(xué)專用設(shè)備（如干膠儀、特種坩堝、陶瓷、圖形轉(zhuǎn)換設(shè)備、制版用干板、特種等離子體源、離子源、外延爐、擴散爐、濺射儀、離子刻蝕機，材料實驗機等），可靠性試驗設(shè)備，微電子加工設(shè)備，通信模擬仿真設(shè)備，通信環(huán)境試驗設(shè)備；

（五）小型熔煉設(shè)備（如真空、粉末、電渣等），特殊焊接設(shè)備；

（六）小型染整、紡絲試驗專用設(shè)備；

（七）電生理設(shè)備。

四、計算機工作站，中型、大型計算機。

10類“研發(fā)機構(gòu)”

一、適用采購國產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅政策的內(nèi)資研發(fā)機構(gòu)和外資研發(fā)中心包括：

（一）科技部會同財政部、海關(guān)總署和稅務(wù)總局核定的科技體制改革過程中轉(zhuǎn)制為企業(yè)和進入企業(yè)的主要從事科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā)工作的機構(gòu)；

（二）國家發(fā)展改革委會同財政部、海關(guān)總署和稅務(wù)總局核定的國家工程研究中心；

（三）國家發(fā)展改革委會同財政部、海關(guān)總署、稅務(wù)總局和科技部核定的企業(yè)技術(shù)中心；

（四）科技部會同財政部、海關(guān)總署和稅務(wù)總局核定的國家重點實驗室（含企業(yè)國家重點實驗室）和國家工程技術(shù)研究中心；

（五）科技部核定的國務(wù)院部委、直屬機構(gòu)所屬從事科學(xué)研究工作的各類科研院所，以及各省、自治區(qū)、直轄市、計劃單列市科技主管部門核定的本級政府所屬從事科學(xué)研究工作的各類科研院所；

（六）科技部會同民政部核定或者各省、自治區(qū)、直轄市、計劃單列市及新疆生產(chǎn)建設(shè)兵團科技主管部門會同同級民政部門核定的科技類民辦非企業(yè)單位；

（七）工業(yè)和信息化部會同財政部、海關(guān)總署、稅務(wù)總局核定的國家中小企業(yè)公共服務(wù)示范平臺（技術(shù)類）；

（八）國家承認(rèn)學(xué)歷的實施?？萍耙陨细叩葘W(xué)歷教育的高等學(xué)校（以教育部門戶網(wǎng)站公布名單為準(zhǔn)）；

（九）符合本公告第二條規(guī)定的外資研發(fā)中心；

（十）財政部會同國務(wù)院有關(guān)部門核定的其他科學(xué)研究機構(gòu)、技術(shù)開發(fā)機構(gòu)和學(xué)校。

二、外資研發(fā)中心，根據(jù)其設(shè)立時間，應(yīng)分別滿足下列條件：

（一）2009年9月30日及其之前設(shè)立的外資研發(fā)中心，應(yīng)同時滿足下列條件：

1.研發(fā)費用標(biāo)準(zhǔn)：（1）對外資研發(fā)中心，作為獨立法人的，其投資總額不低于500萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的非獨立法人的，其研發(fā)總投入不低于500萬美元；（2）企業(yè)研發(fā)經(jīng)費年支出額不低于1000萬元。

2.專職研究與試驗發(fā)展人員不低于90人。

3.設(shè)立以來累計購置的設(shè)備原值不低于1000萬元。

（二）2009年10月1日及其之后設(shè)立的外資研發(fā)中心，應(yīng)同時滿足下列條件：

1.研發(fā)費用標(biāo)準(zhǔn)：作為獨立法人的，其投資總額不低于800萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的非獨立法人的，其研發(fā)總投入不低于800萬美元。

2.專職研究與試驗發(fā)展人員不低于150人。

3.設(shè)立以來累計購置的設(shè)備原值不低于2000萬元。

外資研發(fā)中心須經(jīng)商務(wù)主管部門會同有關(guān)部門按照上述條件進行資格審核認(rèn)定。具體審核認(rèn)定辦法見附件1。在2018年12月31日（含）以前，初次取得退稅資格或通過資格復(fù)審未滿2年的，可繼續(xù)享受至2年期滿。

三、經(jīng)核定的內(nèi)資研發(fā)機構(gòu)、外資研發(fā)中心，發(fā)生重大涉稅違法失信行為的，不得享受退稅政策。具體退稅管理辦法由稅務(wù)總局會同財政部另行制定。相關(guān)研發(fā)機構(gòu)的牽頭核定部門應(yīng)及時將內(nèi)資研發(fā)機構(gòu)、外資研發(fā)中心的新設(shè)、變更及撤銷名單函告同級稅務(wù)部門，并注明相關(guān)資質(zhì)起止時間。